等离子清洗机去除晶圆键合胶光刻胶

等离子清洗机在去除晶圆光刻胶方面的具体使用：等离子清洗机的应用包括预处理、灰化/光刻胶/聚合物剥离、晶圆凸点、消除静电、介电质刻蚀、有机污染去除、晶圆减压等。使用等离子清洗机，不仅能*清除光刻胶等有机物，还能活化加粗晶圆表面，提高晶圆表面的浸润性，使晶圆表面更加具有粘接力。晶圆光刻蚀胶等离子清洗机清洗过程气固相干式反应，不消耗水资源，不需要使用价格较为昂贵的有机溶剂，这使得等离子清洗机整体成本要低于传统的湿法清洗工艺。此外，等离子清洗机解决了湿法去除晶圆表面光刻胶反应不准确、清洗不*、易引入杂质等缺点。不需要有机溶剂，对环境也没有污染，属于低成本的绿色清洗方式

等离子清洗机（Plasma Cleaner）又被称为等离子蚀刻机、等离子去胶机、等离子活化机、Plasma清洗机、等离子表面处理机、等离子清洗系统等。等离子处理机广泛应用于等离子清洗、等离子刻蚀、等离子晶圆去胶、等离子涂覆、等离子灰化、等离子活化和等离子表面处理等场合，通过等离子清洗机的表面处理，能够改善材料表面的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、涂镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂.

等离子体清洗机应用于光电、电子、聚合物科学、生物医学、微流体力学等领域。例如：准确清洗小零件和微零件；涂胶前激活塑料零件；腐蚀和去除聚四氟乙烯、光刻胶等各种材料；以及疏水和亲水涂层。减摩涂层等零件。等离子清洗机还可以处理金属。半导体。氧化物和大多数聚合物材料；可以精细清洗整体、局部和复杂的结构；等离子体清洗过程易于控制、重复和自动化。

作为干法清洗的等离子清洗机可控性强，一致性好，不仅*去除光刻胶有机物，而且还活化和粗化晶圆表面，提高晶圆表面浸润性，等离子清洗机的处理有以下优点：获得满意的剖面，钻孔小，选对表面和电路的损伤小，清洁、经济、安全。择比大，刻蚀均匀性好重复性高。处理过程中不会引入污染，洁净度高。